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晶元烘箱的技術(shù)工藝及流程

更新時(shí)間:2023-07-25   點(diǎn)擊次數(shù):741次
  晶元烘箱是半導(dǎo)體制造過程中關(guān)鍵的設(shè)備之一,用于處理晶元在制造過程中的濕度和雜質(zhì)等問題。下面將介紹該烘箱的技術(shù)工藝及流程。
 
  烘箱預(yù)熱:在開始使用烘箱之前,需要進(jìn)行預(yù)熱操作。這是為了確保烘箱內(nèi)部溫度的均勻性,以及去除可能存在的雜質(zhì)和濕氣。通常使用高溫來預(yù)熱烘箱,使其達(dá)到穩(wěn)定的工作溫度。
 
  晶元裝載:預(yù)熱完成后,將待處理的晶元放置到烘箱的載盤上。載盤通常采用特殊材料制成,可以承受高溫并確保晶元的平穩(wěn)運(yùn)輸。
 
  清潔烘烤:在晶元進(jìn)入烘箱之前,必須確保其表面沒有雜質(zhì)。因此,在烘箱中的一個(gè)步驟是對(duì)晶元進(jìn)行清潔烘烤。這通常包括在高溫下加熱晶元,以去除可能附著在其表面的有機(jī)和無機(jī)雜質(zhì)。
晶元烘箱
 
  高溫烘烤:晶元進(jìn)入正式的高溫烘箱處理階段。在這個(gè)過程中,烘箱內(nèi)部會(huì)維持特定的溫度和時(shí)間條件,以去除晶元表面和內(nèi)部的濕氣。高溫可以使雜質(zhì)蒸發(fā)并從晶元表面揮發(fā)掉。
 
  冷卻:完成高溫烘烤后,晶元需要進(jìn)行冷卻,以確保其溫度逐漸降低到安全的水平。這通常通過將晶元保持在烘箱內(nèi),等待其自然冷卻或者使用輔助的冷卻裝置來實(shí)現(xiàn)。
 
  取出晶元:冷卻完成后,可以將晶元從烘箱中取出。此時(shí),晶元應(yīng)該已經(jīng)干燥并去除了大部分的雜質(zhì)。
 
  總結(jié)起來,晶元烘箱的技術(shù)工藝及流程包括預(yù)熱、晶元裝載、清潔烘烤、高溫烘烤、冷卻和取出晶元等步驟。通過這些步驟,晶元可以得到適當(dāng)?shù)奶幚恚詽M足半導(dǎo)體制造的要求。

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