小型烘膠臺(tái)定制，恒溫烤膠臺(tái)說明

   恒溫烤膠臺(tái)可在光刻工藝中的涂膠后的軟烘，暴光后烘，顯影后的堅(jiān)膜，磨片粘片熔臘等，它采用整體鑄造，加熱板作為加熱體，增強(qiáng)了設(shè)備的安全性。又名烘膠臺(tái)，烤膠臺(tái)，加熱平臺(tái)，烤膠板，熱臺(tái)，熱板等。

   烘膠臺(tái)對(duì)一些溫度敏感材料（如晶體、半導(dǎo)體、陶瓷等）進(jìn)行加熱和裝卡尤為適用。設(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，操作簡(jiǎn)便，安全可靠，是從事半導(dǎo)體熱處理、材料研究生產(chǎn)、溫度干燥試驗(yàn)等。

小型烘膠臺(tái)定制，恒溫烤膠臺(tái)說明

程序控制器運(yùn)作，可選擇加熱，冷卻和停止階段，可以進(jìn)行編程；

利用微電腦處理，實(shí)現(xiàn)加熱程序編輯和控制；

程序記憶功能；

可長時(shí)間連續(xù)工作；

加熱面積大，加熱均勻型好，升溫快；
特殊防腐材料，耐腐蝕，使用壽命長；

加熱面積尺寸：160mm*160mm、220mm*220mm多尺寸定制

溫度分辨率 ：0.1℃   

溫度波動(dòng)度：≤±0.5℃        

溫度均勻性：≤±0.5/1、1%℃

電源輸入：AC220V 10A         

加熱功率：1500W

控溫范圍：室溫--200、300/400/500/600℃  

可選配

真空腔體；

加裝PIN柱；

觸摸屏控制；

氮?dú)鈿夥盏取?/span>

一．概述：

    可程式勻膠機(jī)適用于半導(dǎo)體硅片，載玻片，晶片，基片，ITO導(dǎo)電玻璃等工藝，制版的表面涂覆。該產(chǎn)品具有轉(zhuǎn)速穩(wěn)定和啟動(dòng)迅速等優(yōu)點(diǎn)，并能保證半導(dǎo)體材料中涂膠厚度的一致性和均勻性。

二．特點(diǎn)

1.結(jié)構(gòu)緊湊，適合直接放于手套箱內(nèi)操作；

2.7寸全彩觸摸屏，高級(jí)PLC控制，設(shè)置一鍵啟動(dòng)按鈕, 操作方便；

3.可單步和多步勻膠操作；

4.工業(yè)級(jí)馬達(dá)，旋轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行穩(wěn)定；

5.溶劑PC透明蓋；

6.真空泵與勻膠機(jī)同步工作,勻膠機(jī)旋轉(zhuǎn),真空泵就啟動(dòng),勻膠機(jī)停止,真空泵就停止；

7.設(shè)置有開機(jī)密碼功能，提高設(shè)備操作安全性；

8.左上面配有載物槽，（φ28深16）放藥水瓶方便。

三．技術(shù)參數(shù)

1.外形尺寸：335mm(D)x228mm(W)x215mm(H)

2.標(biāo)配三種真空吸盤（φ10mm,φ25mm,φ45mm）

   φ10mm吸盤（可載基片最小φ10mm   最大φ25mm）

   φ25mm吸盤（可載基片最小φ25mm   最大φ47mm）

   Φ45mm吸盤（可載基片最小φ47mm   最大φ55mm）

3.速度可調(diào)范圍：300-10000rpm

4.減速可調(diào)范圍：1000-3000RPM/S

5.轉(zhuǎn)速分辨率：1RPM

6.旋轉(zhuǎn)時(shí)間范圍：1-3000S

7.加速可控范圍：300-5000RPM/S

8.可編程5組5步程序

9.真空輸入：0.06-0.09Mpa，真空流量最小15L/Min

10.真空接口：設(shè)備后面板出口外徑6mm

11.電源輸入: 220V  150W