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圖像翻轉(zhuǎn)烘箱，光刻圖形反轉(zhuǎn)設(shè)備主要用于剝離過程，特別是在柔性電極、電極的制作以及其他一些MEMS器件工藝中。通過底切側(cè)壁形態(tài)，可以防止沉積的材料在光刻膠邊緣和側(cè)壁上形成連續(xù)薄膜，有助于獲得干凈的剝離光刻膠結(jié)構(gòu)。
圖像翻轉(zhuǎn)烘箱，光刻圖形反轉(zhuǎn)設(shè)備工藝原理：
光刻圖形反轉(zhuǎn)是一種特殊的工藝，用于制作?半導(dǎo)體器件。在曝光結(jié)束后，光刻膠中的圖像與想要得到的圖像是相反的，即曝光區(qū)域在顯影后會(huì)形成孔洞而不是島區(qū)。這種工藝主要用于制作孔洞結(jié)構(gòu)，通過改變曝光區(qū)域和非曝光區(qū)域的相對(duì)分解率來(lái)實(shí)現(xiàn)。
圖像翻轉(zhuǎn)烘箱，光刻圖形反轉(zhuǎn)設(shè)備的應(yīng)用：
光刻圖形反轉(zhuǎn)工藝主要用于剝離過程，特別是在柔性電極、電極的制作以及其他一些MEMS器件工藝中。通過底切側(cè)壁形態(tài)，可以防止沉積的材料在光刻膠邊緣和側(cè)壁上形成連續(xù)薄膜，有助于獲得干凈的剝離光刻膠結(jié)構(gòu)。
光刻圖形反轉(zhuǎn)設(shè)備的性能：
尺寸(可定制) | 內(nèi)腔尺寸:450寬×450深×450高(mm)，外形尺寸:760×750×1500 (mm) |
材質(zhì) | 內(nèi)箱采用SUS304不銹鋼，外箱采用優(yōu)質(zhì)冷軋板靜電噴塑 |
溫度范圍 | RT+50-250℃ |
溫度分辨率 | 0.1℃ |
溫度波動(dòng)度 | ≤±1℃ |
操作模式 | 人機(jī)界面 |
升溫速率 | ≤5℃/min |
氣體 | 2路供氣 |
真空度 | 0.1~100KPa |
電源及總功率 | AC220V±10% / 50HZ 總功率約2.8KW |
溫度控制器 | 觸摸屏微電腦溫控器，可校準(zhǔn)溫度，PID 自整定等功能 |
擱板層數(shù) | 不銹鋼托盤2層 |
真空泵 | 渦旋干泵 |
腔門密封圈 | 采用耐高溫硅橡膠密封圈，密封圈采用一體成型無(wú)縫加工 |
